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二手真空鍍膜機(jī)出售租賃-光馳OTFC1550,1800 韓一2050離子蒸 

廠出售日本光弛OTFC-1550/1800  韓一1600/2050 真空電鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。（銷售技術(shù)楊經(jīng)理：18103045976）

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。

名細(xì)尺寸：

設(shè)備名稱 OTFC-1550CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)

工件架 φ1400mm

工件架轉(zhuǎn)速 10rpm to 30rpm(可變)

光學(xué)膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀

波長范圍：350nm to 1100nm

反射式/透射式

水晶式膜厚計 XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍2套

離子源 17cmRF離子源

機(jī)械性能：

排氣系統(tǒng) 機(jī)械泵+2個擴(kuò)散泵+Polycold（或2個冷凝泵）

達(dá)到壓力 7.0×10-5 Pa 以下

排氣時間 15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)

基板溫度 最高：350℃

工作條件：

設(shè)備尺寸 約5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)

電源 3相,200v,50/60Hz, 約120KVA

水流量 180升/分以上

空氣壓力 0.5MPa以上

重量 約10000kg

適用于L ED用光學(xué)薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多層薄膜等各種光學(xué)薄膜形成裝置

電控柜操作

1. 開水泵、氣源。

2. 開總電源。

3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。

4. 開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機(jī)和

高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。

DEF-6B操作

1. 總電源。

2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關(guān)，延時、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時及保護(hù)燈滅，若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會常亮。

3. 開高壓，高壓會達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動。

關(guān)機(jī)順序

1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。

2. 待分子泵顯示到50時，依次關(guān)高閥、前級、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。

3. 到50以下時，再關(guān)維持泵。