高真空磁控濺射鍍膜儀 真空電鍍機 集成電路電極制造 廠家直銷
概述：廠家直銷單靶高真空磁控濺射鍍膜儀，配600升渦輪分子泵，4升雙極機械泵，油污過濾器
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工程部 陳經理
聯系電話：17715969149
技術部 黃經理
聯系電話：18551070880
型號：HM-MS200
1.腔室外尺寸：Ф250×200mm，304優質不銹鋼材質，帶玻璃觀察罩；內徑：Ф200×200mm；
2.樣品臺尺寸：Ф60-100mm，高度：60～120mm可調；
3.真空系統：機械泵（0.06 Pa）+分子泵（8.0×10-6 Pa）
4.極限真空：8.0×10-6Pa；
5.真空抽速：大氣～1×10-3 Pa ≤10 min；
6.真空測量：復合真空計，測量范圍：105～10-5 Pa；
7.磁控靶：Φ50-100mm 1只，兼容直流電源和射頻電源；
8.濺射電源：500W直流濺射電源；
9.流量計一套；
10.控制方式：具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養維護提示等功能；
11.設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留1個KF25法蘭接口；
12.設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；
13.設備集成度高，可以直接放置于實驗桌面上，需要拆卸的部分采用即插即用的方式，接線及安裝調試便捷簡單；
14.設備整機可置于手套箱內，水、電、氣等通過KF40接口接到手套箱外，與手套箱的對接靈活方便；
15.靶頭水冷：有
16.樣品臺水冷：有
- czhm-instrument發布的信息
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